ポリシランはケイ素-ケイ素結合で形成され、導電性や紫外域の吸収・発光をもつ。ただし、このポリマーは空気中で徐々に酸化するので実用化された例は少なかった。そこで、ポリシラン自体を光ラジカル重合開始剤に用いてメタクリルモノマーと共重合する手法の研究を行ってきた。
ポリシラン自体を光ラジカル重合開始剤に用いてメタクリルモノマーと共重合する。この方法では、紫外線照射で発生したシリルラジカルを用いてメタクリルモノマーの重合を行い、かつ意図的にポリシランブロックを残存させることにより、ポリシラン-メタクリル共重合体を形成した。
アルコキシシランをもつメタクリレートとポリシラン共重合体を合成して、これと金属アルコキシドとのゾルゲル反応によりポリシラン-金属酸化物ハイブリッド物質を作製してきた。((A. Kobayashi et al., Jpn. J. Appl. Phys., 2002, 41, L1467、松川他 固体物理2002,37,19)
アクリルアミドとの共重合体も合成し、新たな機能性を付与してきた(Y. Matsuura et al., Polymer, 2002, 43, 1549)
松浦 幸仁(まつうら ゆきひと )researchmap
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従来、あまり実用化されてこなかったポリシランを当該光重合法を用いてメタクリルモノマーで修飾すると実用化への可能性が大きく広がります。
ポリシラン
メタクリルモノマー
光重合
レジスト材料
・特許4336853 屈折率パターンの形成方法
川崎真一, 藤木 剛, 大阪ガスケミカル株式会社, 松川公洋, 松浦幸仁
・特許5231710 金属微粒子と無機微粒子とを含む組成物およびその製造方法
藤木 剛, 川崎真一, 村瀬裕明, 坂本浩規, 田中雅士, 大阪ガスケミカル株式会社, 松川公洋, 松浦幸仁